
簡要(yào)描述:芯片(piàn)尺寸:10mm x10mm
產(chǎn)品(pǐn)型(xíng)號(hào):
廠商性質:生產廠家
更新(xīn)時間:2025-05-27
訪(fǎng) 問 量(liáng):867產品名(míng)稱(chēng)
中(zhōng)文名稱: Graphenea石(shí)墨烯場(cháng)效應晶體(tǐ)管芯片S20
英文名(míng)稱(chēng):Graphenea Graphene Field-Effect Transistor chipS20
產(chǎn)品(pǐn)概(gài)述(shù)
石墨烯(xī)場效應(yīng)晶體管(guǎn)是一種(zhǒng)基於(yú)石墨烯(xī)電(diàn)學特性(xìng)構建的半導體器(qì)件。 通常(cháng)由石墨烯溝(gōu)道,源(yuán)極(jí),漏極和(hé)柵(zhà)極組成(chéng)。石墨(mò)烯溝(gōu)道(dào)是電流傳輸(shū)的主(zhǔ)要(yào)路(lù)徑,源極(jí)和(hé)漏(lòu)極用於注入和收集(jí)載(zǎi)流子(zǐ),柵(zhà)極(jí)則通過施(shī)加(jiā)電(diàn)壓來調(tiáo)控溝道(dào)中(zhōng)的載流子(zǐ)濃(nóng)度。 當(dāng)在柵(zhà)極上(shàng)施加(jiā)電(diàn)壓時(shí),會(huì)在石墨烯溝道(dào)中誘導出(chū)電荷(hé),從而改變溝道(dào)的電(diàn)導(dǎo)。通過(guò)控製柵極電壓,可以有效(xiào)地調節(jié)源(yuán)極和漏極(jí)之(zhī)間(jiān)的電(diàn)流(liú),實(shí)現晶(jīng)體(tǐ)管的(dí)開關功(gōng)能。
技術(shù)參數
芯(xīn)片尺寸(cùn):10mm x10mm
芯(xīn)片厚度(dù) :675μm
每個芯片的GFET數量:12
柵(zhà)氧化層厚度:90nm
柵(zhà)極氧(yǎng)化(huà)物材(cái)料:SiO2
基體(tǐ)電阻率(shuài) :1-10 Ω.cm
封裝形(xíng)式:50 nm Al2O3 + 100 nm Si3N4
Dirac點(背(bèi)柵):<50 V
良(liáng)率 :>75%
石(shí)墨烯場(cháng)效應遷(qiān)移率:>1000cm2/V.s
產(chǎn)品特(tè)點(diǎn)
1,高靈(líng)敏度:由於(yú)石(shí)墨烯溝道(dào)的厚(hòu)度(dù)很(hěn)薄,所有電流都在其(qí)表(biǎo)麵流動,因此GFET具(jù)有非(fēi)常高的(dí)靈敏度(dù)。
2,雙極(jí)性特征(zhēng):GFET可(kě)以使(shǐ)用(yòng)電子和(hé)空穴兩者(zhě)形(xíng)成(chéng)電流,具(jù)有(yǒu)雙(shuāng)極性(xìng)特(tè)征。
3,高(gāo)頻性(xìng)能:GFET的(dí)開關(guān)頻率可以(yǐ)接近(jìn)太赫茲範圍(wéi),比矽(guī)基(jī)FET快(kuài)幾倍(bèi)。
4,低(dī)功(gōng)耗:石墨烯優異的導電(diàn)性(xìng)和(hé)導熱(rè)性使(shǐ)其工作(zuò)時(shí)的電能損(sǔn)耗(hào)更(gēng)低,散(sàn)熱性(xìng)能更(gēng)好。
應用(yòng)
電子器件:用於製(zhì)造高(gāo)頻,高(gāo)速(sù),低功(gōng)耗(hào)的電子器件(jiàn),如(rú)放(fàng)大器,開關和數(shù)字電(diàn)路(lù)等。
傳(chuán)感(gǎn)器(qì):基於(yú)石(shí)墨烯的FET傳感器(qì)適(shì)用於(yú)各種傳感應(yīng)用(yòng),包(bāo)括(kuò)氣體(tǐ)傳感,生(shēng)物(wù)傳(chuán)感(gǎn)和環(huán)境傳感等。
能源領(lǐng)域(yù):在能源(yuán)存儲和(hé)轉(zhuǎn)換(huàn)方(fāng)麵也(yě)有潛在的(dí)應(yīng)用,如鋰離子電(diàn)池(chí)和超級電容器的(dí)電極材料等。